[发明专利]一种等离子体包覆目标的近场电磁散射建模方法有效
| 申请号： | 202011203369.4 | 申请日： | 2020-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN112380643B | 公开（公告）日： | 2023-05-16 |
| 发明（设计）人： | 谢志杰;贾洁姝;高伟 | 申请（专利权）人： | 上海无线电设备研究所 |
| 主分类号： | G06F30/17 | 分类号： | G06F30/17;G06F30/20 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 张妍;徐雯琼 |
| 地址： | 200233 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体包覆目标的近场电磁散射建模方法，包括以下步骤：步骤1：发射入射射线进行射线投射，获得多次反射射线和折射射线；步骤2：根据入射射线、多次反射射线和折射射线进行近场射线追踪计算，获得多次反射射线的边矢量和折射射线的边矢量；步骤3：根据入射射线、多次反射射线和折射射线进行近场场强追踪计算，获得入射场强、反射场强和折射场强；步骤4：进行近场积分计算，获得散射电场贡献值。此发明解决了近场电磁散射等离子体包覆目标适用性受限的问题，将等离子体等效为分层介质并将近场的发散及传输衰减等效应引入到等离子体包覆目标的弹跳射线法中，实现了等离子体包覆目标的近场电磁散射建模，极大扩展了适用范围。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 目标 近场 电磁 散射 建模 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海无线电设备研究所，未经上海无线电设备研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011203369.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：粘着剂组合物及表面保护膜
- 下一篇：一种浆渣分离装置
