[发明专利]UV光刻胶、UV光刻胶制备方法及透镜阵列制备方法在审
| 申请号： | 202011203670.5 | 申请日： | 2020-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN112346299A | 公开（公告）日： | 2021-02-09 |
| 发明（设计）人： | 廖立瑜;游伴奏;董超;宋玉;俞朝晖 | 申请（专利权）人： | 深圳市裕同包装科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027;G02B3/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人： | 冯筠 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种UV光刻胶、UV光刻胶制备方法及透镜阵列制备方法，UV光刻胶包括以下组分：丙烯酸树脂单体：40‑50重量份；烯酸树脂低聚物：40‑43重量份；第一光引发剂：3‑5重量份；第二光引发剂：1‑2重量份；添加剂：0.01‑1％重量份。本发明的UV光刻胶具有良好的物理、化学及光学性能，非常适合于以PET膜为承印基材。通过UV光刻胶制备方法可高效制得具有良好性能的UV光刻胶，非常适合于以PET膜为承印基材。通过透镜阵列制备方法获得的透镜阵列具有满足期望的均匀性、几何形貌、光学特性及耐磨性。 | ||
| 搜索关键词： | uv 光刻 制备 方法 透镜 阵列 | ||
【主权项】：
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