[发明专利]一种基于曲率和浸入深度的磁流变抛光去除函数演绎方法有效
| 申请号： | 202011203718.2 | 申请日： | 2020-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN112329167B | 公开（公告）日： | 2022-06-17 |
| 发明（设计）人： | 樊炜;张林;黄文;张云飞;刘军;周涛;李凯隆;郑永成;陈立;田东;张建飞 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所 |
| 主分类号： | G06F30/17 | 分类号： | G06F30/17;G06F30/25;G06F30/27;B24B1/00 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 胡晓丽 |
| 地址： | 621000*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁流变抛光去除函数演绎方法，包括步骤：在给定的工艺参数条件下，在不同曲率的球面镜上分别采集不同浸深的抛光斑，获取实验去除函数；利用基于Bezier样条的磁流变抛光去除函数参数化模型及粒子群优化算法计算各去除函数对应的形态系数；建立不同曲率和浸深下的去除函数形态系数相对于基准斑形态系数的对应关系，得到去除函数的标准化形态系数；建立磁流变抛光去除函数关于曲率和浸深的变化规律函数；根据去除函数形态系数变化规律函数，构建曲率效应下磁流变抛光去除函数反求演绎模型，求解曲率和浸深对应的去除函数。本发明解决了当前磁流变抛光曲率效应下去除函数模型误差大、获取成本高、效率低的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 曲率 浸入 深度 流变 抛光 去除 函数 演绎 方法 | ||
【主权项】：
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