[发明专利]利用表面保护物质的薄膜形成方法有效

专利信息
申请号: 202011203995.3 申请日: 2020-11-02
公开(公告)号: CN112779520B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 李根守;金才玟;金荷娜;崔雄辰;郑恩爱;李东炫;李明洙;文志原;张东学;鲁贤植 申请(专利权)人: 株式会社EGTM;爱思开海力士有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455
代理公司: 北京纽盟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11456 代理人: 许玉顺;金珍花
地址: 韩国京畿道水原市*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及薄膜形成方法,更详细地涉及利用表面保护物质的薄膜形成方法。根据本发明的一实施例,利用表面保护物质的薄膜形成方法包括:金属前驱体供给步骤,向放置基板的腔体内部供给金属前驱体,将金属前驱体吸附于所述基板;净化所述腔体内部的步骤;及薄膜形成步骤,向所述腔体内部供给反应物质,与被吸附的所述金属前驱体反应并形成薄膜。该方法在所述薄膜形成步骤之前,还包括:供给所述表面保护物质而吸附于所述基板的表面保护物质供给步骤;以及净化所述腔体内部的步骤。
搜索关键词: 利用 表面 保护 物质 薄膜 形成 方法
【主权项】:
暂无信息
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