[发明专利]一种高端制造用半导体基板抛光液补偿装置有效

专利信息
申请号: 202011204672.6 申请日: 2020-11-02
公开(公告)号: CN112454173B 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 程志鸿 申请(专利权)人: 深圳市旭昌辉半导体有限公司
主分类号: B24B57/02 分类号: B24B57/02;B24B37/015;B24B37/005;B24B49/00;H01L21/306
代理公司: 深圳中细软知识产权代理有限公司 44528 代理人: 袁文英
地址: 518000 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及半导体器件制造技术领域,且公开了一种高端制造用半导体基板抛光液补偿装置,包括抛光座,所述抛光座的顶部转动连接有修整盘,所述修整盘的上方设有上支撑座,所述上支撑座的内部固定连接有活动架,所述活动架的内部固定连接有柔性管,所述柔性管的一侧固定连接有弹簧杆,所述柔性管的另一侧固定连接有弹簧片。当抛光液补充完成后,漂浮板在浮力的作用下,向上移动,使检测头内的体积减少,使液压油被挤压入外套管的内部,使液压油推动滑动座一内的推杆一向内侧移动,使推杆一带动挡板堵住进液管的顶端,使该装置可以及时根据抛光液的损耗,自动进行补充和关闭,节省人力的同时,还有效避免了浪费。
搜索关键词: 一种 高端 制造 半导体 抛光 补偿 装置
【主权项】:
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