[发明专利]半导体工艺设备及其法拉第杯在审
| 申请号： | 202011204687.2 | 申请日： | 2020-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN112397367A | 公开（公告）日： | 2021-02-23 |
| 发明（设计）人： | 王桂滨;韦刚 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/244 | 分类号： | H01J37/244;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 施敬勃 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种半导体工艺设备及其法拉第杯，其中法拉第杯包括电源部、杯体和杯口组件，上述的杯口组件设置在杯体的杯口上，杯口组件包括第一电极层和第二电极层。第一电极层设置在杯口上方，同时第一电极层与杯体绝缘，第二电极层设置在第一电极层的上方，第二电极层与第一电极层绝缘，第一电极层和第二电极层具有对应设置的通孔，离子能够通过通孔进入到杯体中。第一电极层和第二电极层之间形成电场方向朝向第一电极层的电场，电场能够防止等离子体中扩散的自由电子进入到杯体中，从而使得法拉第杯的测量结果更加精确。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 工艺设备 及其 法拉第 | ||
【主权项】：
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