[发明专利]半导体封装件以及相关方法在审

专利信息
申请号: 202011210389.4 申请日: 2020-11-03
公开(公告)号: CN112786456A 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 刘勇;林育聖;陈良彪 申请(专利权)人: 半导体元件工业有限责任公司
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L21/56;H01L23/48;H01L23/488;H01L23/31
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 秦晨
地址: 美国亚*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及半导体封装件以及相关方法。实施例公开了一种用于形成半导体封装件的方法,该方法包括提供与第一金属层耦接的第一绝缘体层。凹槽形成于该第一金属层中,并且半导体管芯机械地耦接在其中。该管芯与第二金属层机械地耦接,并且该第二金属层与第二绝缘体层耦接。该管芯和该层被至少部分地密封以形成该半导体封装件。该第一金属层和/或该第二金属层可为绝缘体‑金属衬底、金属‑绝缘体‑金属(MIM)衬底,或者可由引线框架形成。在实施方式中,该封装件不包括该管芯与该第一金属层之间的间隔件,并且不包括该管芯与该第二金属层之间的间隔件。在实施方式中,该第一绝缘体层和该第二绝缘体层通过密封剂暴露,或者与通过该密封剂暴露的金属层机械地耦接。
搜索关键词: 半导体 封装 以及 相关 方法
【主权项】:
暂无信息
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