[发明专利]一种曝光方法及系统在审
| 申请号： | 202011210583.2 | 申请日： | 2020-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN112415861A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 朱夏彦;陈国军;吴景舟;马迪 | 申请（专利权）人： | 江苏迪盛智能科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 苏州集律知识产权代理事务所(普通合伙) 32269 | 代理人： | 安纪平 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市吴中*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种曝光方法及系统，所述方法包括：依照特定的曝光图像对基板进行第一次曝光，之后将基板进行显影，在基板上显影出曝光图像；对显影后的基板进行第二次曝光，用于对基板进行固化；在第二次曝光后，再依次对基板进行镀金及退膜。本发明通过在显影步骤后增加二次曝光过程，对基板上的膜进行曝光加固，从而提升曝光机的曝光产能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 曝光 方法 系统 | ||
【主权项】：
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