[发明专利]受光芯片及其形成方法、光电耦合器及其形成方法有效

专利信息
申请号: 202011213445.X 申请日: 2020-11-04
公开(公告)号: CN112103348B 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 晁阳;钟定国 申请(专利权)人: 宁波群芯微电子有限责任公司
主分类号: H01L31/02 分类号: H01L31/02;H01L31/0203;H01L31/12;H01L31/18
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 武振华;张振军
地址: 315336 浙江省宁波市杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种受光芯片及其形成方法、光电耦合器及其形成方法,所述受光芯片包括:原始受光芯片,所述原始受光芯片具有受光区域以及围绕所述受光区域的焊盘封装区域;多个焊盘,位于所述焊盘封装区域的原始受光芯片的表面;多个金属凸块,所述金属凸块与所述焊盘一一对应且固定于所述焊盘的表面。本发明可以有效满足对光电耦合器的小、轻、薄的需求。
搜索关键词: 芯片 及其 形成 方法 光电 耦合器
【主权项】:
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