[发明专利]成膜装置及成膜装置的控制方法有效
| 申请号： | 202011214135.X | 申请日： | 2020-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN112779503B | 公开（公告）日： | 2023-04-18 |
| 发明（设计）人： | 青沼大介;菅原洋纪 | 申请（专利权）人： | 佳能特机株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/50;C23C14/04;C23C14/54;H10K71/10;H10K71/16 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 邓宗庆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及成膜装置及成膜装置的控制方法。通过缩短使基板从基板吸附部件(静电吸盘)分离时的时间从而实现成膜装置的高效运用。一种经由掩模在基板的成膜面成膜的成膜装置，其特征在于，具备：基板支承部，其支承基板的成膜面侧；基板吸附部件，其具有吸附面，所述吸附面吸附基板的成膜面的相反侧的非成膜面；掩模吸引部件，其隔着基板吸附部件配置在与掩模相反的一侧，并向成膜面拉近掩模；以及按压部，其设置于掩模吸引部件，并朝向基板吸附部件沿与非成膜面交叉的方向延伸，通过使掩模吸引部件向基板吸附部件移动，从而利用通过了形成于基板吸附部件的贯通部的按压部和基板支承部夹持基板。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 控制 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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