[发明专利]一种清除石墨盘表面沉积物的方法在审
申请号: | 202011215503.2 | 申请日: | 2020-11-04 |
公开(公告)号: | CN112430804A | 公开(公告)日: | 2021-03-02 |
发明(设计)人: | 孙飞 | 申请(专利权)人: | 苏州尚勤光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人: | 王春丽 |
地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种清除石墨盘表面沉积物的方法,第一,将待清洗的石墨盘放入清洗设备的清洗腔内;第二,将清洗腔内的压力抽至0托;第三,向清洗腔内充入氮气,使清洗腔内的压力升至1000托;第四,重复第二步和第三步,重复次数不低于三次;第五,将清洗腔内的压力再次抽至0托,并在氮气氛围下,将清洗腔升温至930℃;第六,对清洗腔内通过混合气体,并持续2小时;第七,对清洗腔进行降温,并通入氮气进行吹扫。通过此种方法可以看出反应温度不需要很高,在930℃下即可完成反应,节省电能,降低对设备内部备件的损耗,更不会致使石墨盘表面的100微米的碳化硅涂层脱落。 | ||
搜索关键词: | 一种 清除 石墨 表面 沉积物 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的