[发明专利]三维集成电路缺陷聚簇容错结构及其聚簇故障容错方法有效

专利信息
申请号: 202011218063.6 申请日: 2020-11-04
公开(公告)号: CN112329363B 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 倪天明;卞景昌;宋钛;聂牧;张肖强 申请(专利权)人: 安徽工程大学
主分类号: G06F30/33 分类号: G06F30/33;G06F30/337;G06F119/02;H01L23/48
代理公司: 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 代理人: 钟雪
地址: 241000 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种三维集成电路缺陷聚簇容错结构,用于3D‑IC设计的分层的、可靠的和重构的缺陷聚簇感知的架构R2CA。考虑方位、几何和生命周期的抽象层提出TSV缺陷聚簇感知设计。首先,在方位层,与当前先进的使用相邻或远处的冗余TSV进行重布线的架构不同,作者引入了基于最小顶点覆盖的有向重布线方法对缺陷TSV重布线。该重布线过程通过引入TSV分组实现缺陷的分类。组(Bin)号定义为与之相邻的缺陷TSV的总数。有缺陷的TSV通过其相邻的具有最小编号的无缺陷的TSV(最小的组)最小化TSV缺陷聚簇效应完成重布线。该架构可以容错多个缺陷,通过考虑无冗余TSV架构的方位、几何结构和生命周期,解决了TSV缺陷聚簇效应。
搜索关键词: 三维集成电路 缺陷 容错 结构 及其 故障 方法
【主权项】:
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