[发明专利]非制冷红外探测器、芯片以及芯片的制作方法在审

专利信息
申请号: 202011221554.6 申请日: 2020-11-05
公开(公告)号: CN112499580A 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 马占锋;黄立;陈丹;汪超;王春水;高健飞 申请(专利权)人: 武汉鲲鹏微纳光电有限公司
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;B81B7/00;B81B7/02
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 胡建文
地址: 430000 湖北省武汉市东*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种非制冷红外探测器芯片的制作方法,包括如下步骤:S1,在读出电路上进行MEMS阵列的制作;S2,待完成后,在读出电路非MEMS阵列的部位上沉积吸气剂材料;S3,通过剥离工艺,去掉非制冷红外像元部分的吸气剂,留下非制冷红外非像元部分的吸气剂。还提供一种非制冷红外探测器,包括半导体制冷器以及非制冷红外探测器芯片,芯片设于半导体制冷器上。还提供一种非制冷红外探测器芯片,包括读出电路以及设于读出电路上的MEMS阵列,读出电路上还沉积有吸气剂,吸气剂环绕MEMS阵列设置。本发明通过在芯片上沉积吸气剂材料,去掉两个吸气剂管脚,设计更简单,成本更低;不用再焊接吸气剂,可以简化封装部分的工艺,提高生产效率,降低焊接成本和人力。
搜索关键词: 制冷 红外探测器 芯片 以及 制作方法
【主权项】:
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