[发明专利]像差测量方法、物品制造方法以及曝光装置在审
| 申请号： | 202011231381.6 | 申请日： | 2020-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN112782940A | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 齐藤悠树 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01M11/02 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 程晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及像差测量方法、物品制造方法以及曝光装置。像差测定方法包括：通过在投影光学系统的光轴方向上的多个位置处测量透射配置于所述投影光学系统的物体侧的物体侧标记、所述投影光学系统以及配置于所述投影光学系统的像侧的像侧标记的光的光量，从而获取表示所述光轴方向上的位置与所述光量的关系的光量分布的工序；求出表示所述光量分布中的以所述投影光学系统的焦点位置为对称轴的非对称性的特征量的工序；以及根据所述特征量来决定所述投影光学系统的像差量的工序。 | ||
| 搜索关键词： | 测量方法 物品 制造 方法 以及 曝光 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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