[发明专利]半导体存储器装置和制造该半导体存储器装置的方法在审

专利信息
申请号: 202011237281.4 申请日: 2020-11-09
公开(公告)号: CN113629058A 公开(公告)日: 2021-11-09
发明(设计)人: 金在泽;郑蕙英 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: H01L27/11524 分类号: H01L27/11524;H01L27/11556;H01L27/1157;H01L27/11582
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 刘久亮;黄纶伟
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开包括一种半导体存储器装置和制造该半导体存储器装置的方法。该半导体存储器装置包括:绝缘膜,其穿过虚设源极结构;第一虚设叠层,其延伸以与绝缘膜和虚设源极结构交叠,并且包括与绝缘膜交叠的凹陷部;电阻膜,其与第一虚设叠层的凹陷部交叠;以及第二虚设叠层,其设置在第一虚设叠层上以覆盖电阻膜。
搜索关键词: 半导体 存储器 装置 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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