[发明专利]半导体存储器装置和制造该半导体存储器装置的方法在审
申请号: | 202011237281.4 | 申请日: | 2020-11-09 |
公开(公告)号: | CN113629058A | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | 金在泽;郑蕙英 | 申请(专利权)人: | 爱思开海力士有限公司 |
主分类号: | H01L27/11524 | 分类号: | H01L27/11524;H01L27/11556;H01L27/1157;H01L27/11582 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 刘久亮;黄纶伟 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本公开包括一种半导体存储器装置和制造该半导体存储器装置的方法。该半导体存储器装置包括:绝缘膜,其穿过虚设源极结构;第一虚设叠层,其延伸以与绝缘膜和虚设源极结构交叠,并且包括与绝缘膜交叠的凹陷部;电阻膜,其与第一虚设叠层的凹陷部交叠;以及第二虚设叠层,其设置在第一虚设叠层上以覆盖电阻膜。 | ||
搜索关键词: | 半导体 存储器 装置 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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