[发明专利]一种基于变去除函数大气等离子体的熔石英抛光方法在审
| 申请号： | 202011238585.2 | 申请日： | 2020-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN112456807A | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 彭冰;徐学科;顿爱欢;吴伦哲;王哲 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所;上海恒益光学精密机械有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00;G06F17/15 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及硅基光学元件表面超光滑精密加工技术领域，具体涉及一种基于变去除函数大气等离子体的熔石英抛光方法。以解决现有大气等离子体加工过程中去除函数非线性变化导致加工收敛率不高的问题。先进行前期变去除函数提取实验，再对拟合出的变去除函数与理论去除量进行运算得出加工所需的驻留时间，采用大气等离子体设备进行精修抛光，最终完成了熔石英光学元件的高精密、高效率加工。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 去除 函数 大气 等离子体 石英 抛光 方法 | ||
【主权项】：
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