[发明专利]一种双组分复合助催化剂修饰硅基光电阴极及制备方法有效
申请号: | 202011241769.4 | 申请日: | 2020-11-09 |
公开(公告)号: | CN112442705B | 公开(公告)日: | 2022-08-02 |
发明(设计)人: | 补钰煜;陈治伟;敖金平 | 申请(专利权)人: | 西安电子科技大学 |
主分类号: | C25B11/054 | 分类号: | C25B11/054;C25B11/091;C25B11/059;C25B1/04;C25B1/55 |
代理公司: | 西安瀚汇专利代理事务所(普通合伙) 61279 | 代理人: | 汪重庆 |
地址: | 710071 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: |
本发明提供了一种双组分复合助催化剂修饰硅基光电阴极及制备方法;包括:p‑Si基底层、表面助催化层和TiO |
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搜索关键词: | 一种 组分 复合 催化剂 修饰 光电 阴极 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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