[发明专利]一种掩膜版及其制作方法、显示基板及其制作方法在审
| 申请号： | 202011243457.7 | 申请日： | 2020-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN112376015A | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 李云龙;卢鹏程 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L25/00;H01L25/16;H01L33/00 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 李娜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种掩膜版及其制作方法、显示基板及其制作方法，涉及显示技术领域，该掩膜版能够大幅减轻灰尘造成的影响，从而提升产品良率。一种掩膜版，包括掩膜部和围绕所述掩膜部的周边部；其中，所述掩膜部包括至少一个掩膜单元，所述掩膜单元包括开口和围绕所述开口的第一本体；所述周边部中至少部分区域的厚度大于所述掩膜部的厚度，且被配置为与待成膜基板相接触，并支撑所述待成膜基板，使得所述掩膜部与所述待成膜基板之间具有间隙。本发明适用于掩膜版的制作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜版 及其 制作方法 显示 | ||
【主权项】：
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