[发明专利]一种增强锑基超晶格材料光致发光信号的方法有效

专利信息
申请号: 202011245205.8 申请日: 2020-11-10
公开(公告)号: CN112510113B 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 邢伟荣;申晨;刘铭;周朋;李乾 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十一研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/102
代理公司: 工业和信息化部电子专利中心 11010 代理人: 罗丹
地址: 100015*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种增强锑基超晶格材料光致发光信号的方法,包括:将GaSb衬底进行预处理,以去除水汽和有机物;将GaSb衬底升温,高温去除GaSb衬底的氧化层;将GaSb衬底降温,在GaSb衬底生长GaSb缓冲层;对GaSb缓冲层升温再进行退火处理;对GaSb缓冲层降温,通过控制生长温度、生长速率、束流比以及生长界面在GaSb缓冲层上生长Sb基超晶格材料;在Sb基超晶格材料表面生长的GaSb层,降温取出Sb基超晶格材料。本发明通过对Sb基超晶格材料进行光致发光测试,光致发光信号极大增强,发光峰峰位清晰,半峰宽较小,可以准确测试超晶格材料带隙,使得Sb基超晶格材料能够广泛应用于红外光电器件,提升红外光电器件的检测精度。
搜索关键词: 一种 增强 锑基超 晶格 材料 光致发光 信号 方法
【主权项】:
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