[发明专利]一种增强锑基超晶格材料光致发光信号的方法有效
申请号: | 202011245205.8 | 申请日: | 2020-11-10 |
公开(公告)号: | CN112510113B | 公开(公告)日: | 2022-04-19 |
发明(设计)人: | 邢伟荣;申晨;刘铭;周朋;李乾 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/102 |
代理公司: | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人: | 罗丹 |
地址: | 100015*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开一种增强锑基超晶格材料光致发光信号的方法,包括:将GaSb衬底进行预处理,以去除水汽和有机物;将GaSb衬底升温,高温去除GaSb衬底的氧化层;将GaSb衬底降温,在GaSb衬底生长GaSb缓冲层;对GaSb缓冲层升温再进行退火处理;对GaSb缓冲层降温,通过控制生长温度、生长速率、束流比以及生长界面在GaSb缓冲层上生长Sb基超晶格材料;在Sb基超晶格材料表面生长的GaSb层,降温取出Sb基超晶格材料。本发明通过对Sb基超晶格材料进行光致发光测试,光致发光信号极大增强,发光峰峰位清晰,半峰宽较小,可以准确测试超晶格材料带隙,使得Sb基超晶格材料能够广泛应用于红外光电器件,提升红外光电器件的检测精度。 | ||
搜索关键词: | 一种 增强 锑基超 晶格 材料 光致发光 信号 方法 | ||
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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