[发明专利]光刻胶收集装置自动清洗系统在审
| 申请号： | 202011245774.2 | 申请日： | 2020-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN112495922A | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 吴永利 | 申请（专利权）人： | 芯米（厦门）半导体设备有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B3/14;B08B13/00;B08B9/093 |
| 代理公司： | 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227 | 代理人： | 吴圳添 |
| 地址： | 361000 福建省厦门市火炬*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种光刻胶收集装置自动清洗系统，包括清洗液罐、收集装置、集液箱、导液管、第一泵体、超声波清理装置、滤网、循环管、PLC控制系统、触摸屏和喷嘴，所述清洗液罐顶端设置有进液口，清洗液罐右侧上设置有导液管，所述导液管一端与清洗液罐相通，另一端设置有第一泵体，所述第一泵体一端设置有输送管，输送管穿过收集装置外壳设置在收集装置内部，所述输送管上设置有通管，所述通管底端设置有喷嘴，所述收集装置内部两侧设置有超声波清理装置，收集装置底端设置有导流板，PLC控制系统可以使整个清洗系统进行编程控制的，使各个单元的运转时间可以根据要求增减，清洗的顺序可以改变，方便操作。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 收集 装置 自动 清洗 系统 | ||
【主权项】：
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