[发明专利]成膜装置有效
申请号: | 202011260259.1 | 申请日: | 2020-11-12 |
公开(公告)号: | CN112813381B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 关谷任史;木村龙司;新海达也;冈部俊介 | 申请(专利权)人: | 佳能特机株式会社 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24;H10K71/16 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 韩卉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种能够抑制对准精度降低的成膜装置。本发明的成膜装置包括:容器;容器支承体,其设置于所述容器的外部,支承所述容器的至少一部分;基板支架,其设置于所述容器内,保持基板;掩模支架,其设置于所述容器内,支承掩模;基板支架驱动机构,其驱动所述基板支架;掩模支架驱动机构,其驱动所述掩模支架;以及振动传递抑制构件,其设置于所述容器支承体与所述基板支架驱动机构之间以及所述容器支承体与所述掩模支架驱动机构之间中的至少一方。 | ||
搜索关键词: | 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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