[发明专利]一种PECVD镀膜机

摘要

本发明提供一种PECVD镀膜机，包括用于镀膜操作的真空炉腔，所述真空炉腔内设有至少两个与硅片相关的工位，硅片的烧制工位同时也是硅片的装载工位，硅片被通过平移机构装入镂空载板中，镂空载板包括多个，多个镂空载板在硅片的装载工位上下排列且等间距均布，形成硅片载具，单个镂空载板上至少设有一个镂空部位和一个安装部位，镂空部位位于镂空载板的中部，所述安装部位位于所述镂空载板的一侧，多个镂空载板的安装部位位于镂空载板的同一侧。本发明采用竖向送片和水平插片的方式，硅片和电极片的交替对插在真空炉腔内完成，对于镀膜过程来说，从插片到镀膜的过程，都可以进行氛围控制，有利于调整镀膜环境，提升镀膜质量。