[发明专利]一种多尺度电离层TEC预测方法有效

专利信息
申请号: 202011269492.6 申请日: 2020-11-13
公开(公告)号: CN112287607B 公开(公告)日: 2022-09-02
发明(设计)人: 汤俊;李垠健;钟正宇;李长春 申请(专利权)人: 华东交通大学
主分类号: G06F30/27 分类号: G06F30/27;G06N3/04
代理公司: 西安合创非凡知识产权代理事务所(普通合伙) 61248 代理人: 张燕
地址: 330013 江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明公开了一种多尺度电离层TEC预测方法,包括以下步骤:数据去趋势,用最小二乘法将TEC数据拟合为一条直线作为趋势项,原数据减去趋势项得到非趋势项,非趋势项的均值为零;对非趋势项两端分别使用ARMA模型进行拓延得到,以降低VMD分解的端点效应;对利用VMD算法分解为个不同频率的IMF分量,然后将各分量两端的拓延部分去除,分别使用LSTM神经网络进行预测得到预测值;使用ARMA模型预测趋势项得到趋势项预测值,将趋势项的预测值与非趋势项各分量的预测值重构得到最终预测值。提高了预测结果的精度和稳定性。
搜索关键词: 一种 尺度 电离层 tec 预测 方法
【主权项】:
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