[发明专利]靶材溅射镀膜腔体及提高镀膜腔体洁净程度的方法在审
| 申请号： | 202011270174.1 | 申请日： | 2020-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN112501564A | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 杨海成 | 申请（专利权）人： | 东莞耀捷镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/56 |
| 代理公司： | 深圳市兴科达知识产权代理有限公司 44260 | 代理人： | 方玉叶 |
| 地址： | 523000 广东省东莞市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及靶材溅射镀膜技术领域，尤其涉及靶材溅射镀膜腔体及提高镀膜腔体洁净程度的方法。其包括密封箱体，密封箱体内设置有负压空间，负压空间内设置有镀膜腔，镀膜腔用于放置靶材和沉积基底，所述密封箱体的内壁设置有承接清洁装置，承接清洁装置包括承接输送带、靶材刮除装置和两个滚轮，承接输送带的两端分别包绕于两个滚轮；靶材刮除装置包括负压吸拾嘴和刮刀，还包括驱动滚轮转动的动力装置。本发明的靶材溅射镀膜腔体及提高镀膜腔体洁净程度的方法，被轰击出的靶材粒子朝真空腔体的内壁飞射时会被承接输送带的表面承接，避免沉积于真空腔体的内壁成膜后脱落污染镀膜空间，提高了镀膜空间的洁净程度。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 镀膜 提高 洁净 程度 方法 | ||
【主权项】：
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