[发明专利]光学测定装置的线性校正方法、光学测定方法以及光学测定装置在审
| 申请号： | 202011271709.7 | 申请日： | 2020-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN112798105A | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 中岛一八;野口宗裕 | 申请（专利权）人： | 大塚电子株式会社 |
| 主分类号： | G01J3/28 | 分类号： | G01J3/28 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供光学测定装置的线性校正方法、光学测定方法以及光学测定装置，高精度地进行使用了CMOS线性图像传感器的光学测定装置的线性校正。具备CMOS线性图像传感器的光学测定装置的线性校正方法包括：曝光步骤，使曝光时间变化而使强度恒定的基准光依次入射CMOS线性图像传感器的注目受光元件；测定值获取步骤，依次获取所述注目受光元件的测定值；实际线性误差计算步骤，依次计算表示基于与所述测定值对应的所述曝光时间得到的线性值与该测定值之差的实际线性误差；以及拟合步骤，对所述各实际线性误差执行表示第一线性误差的第一函数的拟合。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 测定 装置 线性 校正 方法 以及 | ||
【主权项】：
暂无信息
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