[发明专利]一种铸造单晶硅异质结太阳电池制备方法有效
申请号: | 202011271814.0 | 申请日: | 2020-11-13 |
公开(公告)号: | CN112436063B | 公开(公告)日: | 2022-07-15 |
发明(设计)人: | 许志 | 申请(专利权)人: | 福建新峰二维材料科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0236 | 分类号: | H01L31/0236;H01L31/0224;H01L31/072;H01L31/18 |
代理公司: | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人: | 张磊 |
地址: | 362100 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本发明为提供一种铸造单晶硅异质结太阳电池制备方法。包括以下步骤:S1、利用酸性溶液去除表面的油污、金属颗粒以及其他杂质;S2、将清洗后的硅片通过物理气相沉积技术沉积铝膜;S3、在沉积铝膜后的硅片表面沉积一层PSG,并进行一系列退火处理;S4、将处理后的硅片用溶剂去除表面反应层和杂质;再将处理过的硅片进行表面制绒;S5、将处理后的硅片进行非晶硅镀膜;S6、在非晶硅薄膜层的正反面分别生成透明导电膜层;S7、在硅片两面的透明导电膜层上形成栅线电极,从而完成异质结电池片的制作流程。本发明所述工艺加工的铸造单晶按常规异质结流程的少子寿命,电性能中转换效率、开路电压、短路电流及填充因子均有较大程度的提升。 | ||
搜索关键词: | 一种 铸造 单晶硅 异质结 太阳电池 制备 方法 | ||
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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