[发明专利]一种可见光调控的全氟取代二噻吩基乙烯化合物、其制备和应用有效
| 申请号： | 202011271951.4 | 申请日： | 2020-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN112409324B | 公开（公告）日： | 2022-02-11 |
| 发明（设计）人： | 李冲;梅丽君;朱明强;曹亦闲 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | C07D333/20 | 分类号： | C07D333/20;C09K9/02 |
| 代理公司： | 武汉华之喻知识产权代理有限公司 42267 | 代理人： | 彭翠;曹葆青 |
| 地址： | 430074 *** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： |
本发明属于新材料领域，更具体地，涉及一种可见光调控的全氟取代二噻吩基乙烯化合物、其制备和应用。本发明通过对全氟取代二噻吩基乙烯化合物进行取代基的修饰设计，使分子吸收红移，合成全可见光驱动的二噻吩基乙烯分子开关，提高抗疲劳性，极大地扩展光致变色开关的材料和生物应用领域。本发明优选实施例中二噻吩基乙烯化合物在405nm可见光照射前后在CD |
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| 搜索关键词： | 一种 可见光 调控 取代 噻吩 乙烯 化合物 制备 应用 | ||
【主权项】：
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