[发明专利]一种工艺腔室漏率检测方法、半导体工艺设备在审
| 申请号： | 202011273465.6 | 申请日： | 2020-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN112484922A | 公开（公告）日： | 2021-03-12 |
| 发明（设计）人： | 方林 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G01M3/00 | 分类号： | G01M3/00;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 莎日娜 |
| 地址： | 100176 北京市大*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请实施例提供了工艺腔室漏率检测方法、半导体工艺设备，该方法包括：实时确定工艺腔室是否满足漏率检测条件，若是，将工艺腔室的漏率检测指示参数设置为指示需要进行漏率检测；实时监控工艺腔室的漏率检测指示参数，在监控到漏率检测指示参数指示需要进行漏率检测时，确定是否存在工艺腔室的并行工艺腔室；若是，在工艺腔室不存在晶圆时或者工艺腔室中的晶圆由于针对晶圆的工艺操作完成离开工艺腔室后，将工艺腔室的状态标识为下线状态；对所述工艺腔室执行漏率检测操作，得到检测结果，并将工艺腔室的漏率检测指示参数设置为指示不需要进行漏率检测。实现了针对工艺腔室进行漏率检测时，无需将整个半导体工艺设备停机，避免了产能下降。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 工艺 腔室漏率 检测 方法 半导体 工艺设备 | ||
【主权项】：
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