[发明专利]生成集成电路布局图的方法、集成电路器件和系统有效
| 申请号： | 202011276793.1 | 申请日： | 2020-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN113128164B | 公开（公告）日： | 2023-09-12 |
| 发明（设计）人： | 张盟昇;陈建盈;黄家恩;王奕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/392 | 分类号： | G06F30/392;H10B20/25 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种生成IC布局图的方法包括：将第一有源区域定位在第二有源区域和第三有源区域之间；使第一有源区域与第一栅极区域至第四栅极区域相交，以限定第一反熔丝位和第二反熔丝位的栅极位置；使第一有源区域和第二有源区域之间的第一导电区域和第二导电区域对准，从而使第一导电区域与第一栅极区域相交，第二导电区域与第四栅极区域相交，以及使第一有源区域和第三有源区域之间的第三导电区域和第四导电区域对准，从而使第三导电区域和第四导电区域与第一栅极区域和第三栅极区域相交，或者使第三导电区域和第四导电区域与第二栅极区域和第四栅极区域相交。本发明的实施例还涉及集成电路器件和系统。 | ||
| 搜索关键词： | 生成 集成电路 布局 方法 器件 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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