[发明专利]一种硅管溅射靶材的制备方法有效
| 申请号： | 202011284440.6 | 申请日： | 2020-11-17 |
| 公开（公告）号： | CN112410737B | 公开（公告）日： | 2022-11-25 |
| 发明（设计）人： | 刘耀文;黄军浩 | 申请（专利权）人： | 光洋新材料科技（昆山）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C01B33/02;C01B33/037 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开的属于硅管溅射靶材技术领域，具体为一种硅管溅射靶材的制备方法，包括硅与金属添加剂，其中各成分质量份数为：硅：96‑98份；金属添加剂：2‑4份；还包括以下步骤：S1，使用超声波设备对硅进行清洗，并将硅通过两次球磨变成硅粉；S2，使用混合装置将硅和金属添加剂混合均匀，得到混合粉末；S3，将混合粉末装入冷等静压模具的管形空腔中，通过三次静压工艺压制硅粉成管状，然后脱去冷等静压模具得到硅管坯，对硅管坯端头及外表面进行修整；本发明结构设计科学合理，对基材具有更为优秀的比抗阻、应力和耐腐蚀性能，使用中将更加可靠。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 溅射 制备 方法 | ||
【主权项】：
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