[发明专利]空气孔光子晶体结构被动辐射冷却薄膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011287535.3 申请日: 2020-11-17
公开(公告)号: CN112500595A 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 周雷;南峰;宋光;范宝路;李忠文 申请(专利权)人: 淮阴工学院
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;C08J9/26;C08L83/04;B29C41/32;B29C41/46;B29C71/02;B29L7/00
代理公司: 淮安市科文知识产权事务所 32223 代理人: 廖娜;李锋
地址: 223005 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及冷却领域,公开了一种空气孔光子晶体结构被动辐射冷却薄膜及其制备方法,该薄膜由厚度为70μm以上的聚二甲基硅氧烷(1)材质构成,在聚二甲基硅氧烷(1)内具有蜂窝状排列的空气孔(2);空气孔(2)的层数大于三层,直径为1μm~5μm;该方法制备的被动辐射冷却薄膜仅由一种材料聚二甲基硅氧烷组成,其中,聚二甲基硅氧烷内部的空气孔光子晶体结构反射太阳光辐射,同时增加“大气窗口”特定波段的发射率,从而实现被动辐射冷却功能,克服了现有制备方法中引入金属底板来反射太阳光,容易造成光污染和高成本的固有缺陷,具有较好的应用价值。
搜索关键词: 气孔 光子 晶体结构 被动 辐射 冷却 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于淮阴工学院,未经淮阴工学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011287535.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top