[发明专利]一种单晶硅生产制造用抛光打磨设备及其使用方法在审
| 申请号： | 202011290028.5 | 申请日： | 2020-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN112428055A | 公开（公告）日： | 2021-03-02 |
| 发明（设计）人： | 韩永龙;宋生宏;高玉顺;张培顺;高俊伟;祁永福;何旭;杨延生 | 申请（专利权）人： | 阳光能源（青海）有限公司 |
| 主分类号： | B24B7/22 | 分类号： | B24B7/22;B24B55/04;B24B55/06 |
| 代理公司： | 青海省专利服务中心 63100 | 代理人： | 李玉青 |
| 地址： | 810000 青海*** | 国省代码： | 青海;63 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种单晶硅生产制造用抛光打磨设备及其使用方法，该设备包括单晶硅抛光机本体，单晶硅抛光机本体的顶部设置有气缸，单晶硅抛光机本体的中部设置有工作台，工作台的顶端固定安装有防护箱，气缸的输出端延伸至防护箱的内端固定安装有打磨机构；本发明的有益效果是：本发明一种单晶硅生产制造用抛光打磨设备，通过设置防护箱使打磨过程在防护箱内进行，有效的防止了打磨时产生的单晶硅粉尘漂浮出来，且在防护箱的内端设置有能够任意调整位置的滴水头，滴水头滴落的水能够均匀的滴落在单晶硅片的表面，从而将打磨时产生的单晶硅粉尘清理掉，并通过排水管排出，有效地减少了工作环境内硅粉尘的数量，提高了工作环境。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 单晶硅 生产 制造 抛光 打磨 设备 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
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