[发明专利]半导体材料的制备方法、钙钛矿半导体器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011292188.3 申请日: 2020-11-18
公开(公告)号: CN112490369A 公开(公告)日: 2021-03-12
发明(设计)人: 杨世和;刘通发 申请(专利权)人: 北京大学深圳研究生院
主分类号: H01L51/46 分类号: H01L51/46;H01L51/48;H01L51/42
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 代理人: 刘方
地址: 518000 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种半导体材料的制备方法、钙钛矿半导体器件及其制备方法,半导体材料的制备方法包括以下步骤:沉积羧酸盐溶液,羧酸盐溶液选自羧酸铅溶液、羧酸锡溶液中的至少一种;沉积有机胺盐/脒盐溶液;在50℃~160℃进行退火。本发明使用羧酸盐和有机胺盐/脒盐作为原料,所用的溶剂可以不含DMF、DMSO等强极性且有毒溶剂,适合在极性溶剂敏感和极性溶剂不敏感的各种衬底上生长钙钛矿,并且对环境友好。本发明还利用羧酸盐溶液和有机胺盐/脒盐溶液作为钙钛矿前驱体材料,在碳电极中进行结晶,使得与钙钛矿层直接接触的碳电极材料被钙钛矿材料包裹,造成“钙钛矿/碳”异质结的接触面积增加,以提升器件光电转换性能和稳定性。
搜索关键词: 半导体材料 制备 方法 钙钛矿 半导体器件 及其
【主权项】:
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