[发明专利]轨迹控制装置在审
| 申请号： | 202011297170.2 | 申请日： | 2020-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN112835324A | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 脇坂新路;小熊和行;安田光 | 申请（专利权）人： | SMC株式会社 |
| 主分类号： | G05B19/19 | 分类号： | G05B19/19 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 崔巍 |
| 地址： | 日本国东京都千*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明是一种轨迹控制装置，具备：能够与工件的侧面接触的接触传感器(26)；使轨迹追随部件(28)和接触传感器移动的致动器(24)；基于基准位置的工件的侧面的位置信息和放置于任意位置的工件的侧面的位置信息，对基准位置的工件上的轨迹的XY坐标进行变换，从而计算出放置于任意位置的工件上的轨迹的XY坐标的轨迹控制器(12)，放置于上述任意位置的工件的侧面的位置信息是通过接触传感器获得的。 | ||
| 搜索关键词： | 轨迹 控制 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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