[发明专利]由三甲基二环[2.2.2]辛烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法

摘要

本发明公开了由三甲基二环[2.2.2]辛烷二酮合成的可降解型光刻胶树脂单体及其合成方法，涉及光刻胶树脂领域，树脂单体的结构式如下所示：其中R1为饱和烷烃或者环烷烃，R2为氢或者甲基，其合成方法为：在惰性气体保护下，1,3,3‑三甲基二环[2.2.2]辛烷‑2,5‑二酮(Ⅰ)与烷基格氏试剂或者环烷基格氏试剂反应，反应结束后加水淬灭，后处理纯化得到中间体(Ⅱ)；在碱性条件下，中间体(Ⅱ)与丙烯酰氯或者甲基丙烯酰氯反应，后处理纯化后得到树脂单体(Ⅲ)。本发明提供的树脂单体与其它树脂单体聚合形成的聚合树脂具有更好的耐刻蚀性能，有利于改善显影后图形的边缘粗糙度，大大提高了光刻图案的分辨率。