[发明专利]单面抛光装置及方法有效
| 申请号： | 202011309493.9 | 申请日： | 2020-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN112428138B | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 郭宇轩 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟材料科技有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/30;B24B37/34;B24B41/00;B24B47/20 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;张博 |
| 地址： | 710000 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种单面抛光装置及方法，属于半导体技术领域。单面抛光装置，包括：固定部，用于对待抛光的晶圆进行固定；位于所述固定部上方的抛光头，用于对所述晶圆进行抛光；分布在所述晶圆周缘的多个控制销，用于固定所述晶圆的边缘，所述多个控制销中的至少一个目标控制销能够上下运动；控制机构，用于根据所述抛光头的位置以及所述晶圆表面的形状控制所述目标控制销的上下运动。本发明能够提高晶圆的表面平坦度。 | ||
| 搜索关键词： | 单面 抛光 装置 方法 | ||
【主权项】：
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