[发明专利]一种基于磁控溅射的可见红外窗口减反射膜及制备方法有效

专利信息
申请号: 202011310042.7 申请日: 2020-11-20
公开(公告)号: CN112609158B 公开(公告)日: 2022-03-29
发明(设计)人: 陆丹枫;李斯成;唐乾隆;査家明;汶韬 申请(专利权)人: 江苏北方湖光光电有限公司
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/35
代理公司: 无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙) 32340 代理人: 杨立秋
地址: 214000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种基于磁控溅射的可见红外窗口减反射膜及制备方法,属于光学薄膜技术领域。主要是用磁控溅射镀制方法,摒弃常规高效减反膜使用硬度低的氟化镱、硫化锌等软膜材料,而是使用氧化钇、氧化钛、氧化铝等硬质氧化物保护膜,经过设计优化形成能用于硫化锌基地的可见、微光、红外共窗口高强减反膜。该膜系能够在0.4um~0.75um,1.57um波段范围内反射率5%,在7.4um~10.7um范围内透过率大于92%,且膜层表面质量、牢固性良好,能抗GJB2485‑95中规定的摩擦试验、GJB150A‑2009中规定的温度、湿热、盐雾等试验要求。
搜索关键词: 一种 基于 磁控溅射 可见 红外 窗口 减反射膜 制备 方法
【主权项】:
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