[发明专利]基于全光场调控的散射介质光场聚焦方法与装置在审
| 申请号： | 202011312066.6 | 申请日： | 2020-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN114518658A | 公开（公告）日： | 2022-05-20 |
| 发明（设计）人： | 杨佳苗;何巧芝;刘林仙;沈阳;龚雷;邹高宇 | 申请（专利权）人： | 绍兴钜光光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 312300 浙江省绍兴*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明属于散射介质光场调控技术领域，涉及一种基于全光场调控的散射介质光场聚焦方法与装置。本发明首次提出对入射散射介质内的光场进行具有振幅、相位、偏振等全部光场信息的全光场调控，通过两套光场调控装置对两束不同偏振方向的光束进行调控来不断优化两个复振幅光场，同时调控其相位和振幅信息，通过合束装置将两个复振幅光场合束后生成目标全光场，进而优化经过散射介质扰乱后形成的散斑分布，得到所需形成的聚焦光束。本发明将全光场调控技术运用到散射介质光场光束聚焦中，增加了光场的调控维度，大幅提升散射介质光场调控的质量，解决了目前振幅、相位或偏振单一维度调制方式导致的散射介质内光场调控精度难以显著提高的难题。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 全光场 调控 散射 介质 聚焦 方法 装置 | ||
【主权项】：
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