[发明专利]一种MOCVD设备用石墨盘的清洗方法有效
| 申请号： | 202011313404.8 | 申请日： | 2020-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN112404022B | 公开（公告）日： | 2022-09-09 |
| 发明（设计）人： | 赵迎春;熊敏 | 申请（专利权）人： | 苏州镓港半导体有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/10 | 分类号： | B08B3/10;B08B3/08;B08B7/00;B08B7/04 |
| 代理公司： | 苏州启华专利代理事务所(普通合伙) 32357 | 代理人： | 徐伟华 |
| 地址： | 215600 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种MOCVD设备用石墨盘的清洗方法，包括：1）对石墨盘进行氧化处理；2）利用第一洗液对石墨盘进行加热浸泡，去除包含砷元素的沉积物；3）利用第二洗液对石墨盘进行加热浸泡，去除包含锑元素的沉积物；4）利用第三洗液对石墨盘进行浸泡去除残留的金属；5）对石墨盘进行烘烤以去除残留的挥发物，而后自然降温冷却，真空封存。该工艺过程简单，能有效去除含砷、含锑沉积物，对设备要求低，大大降低了清洗成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 mocvd 备用 石墨 清洗 方法 | ||
【主权项】：
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