[发明专利]曝光装置、平面显示器的制造方法、组件制造方法、及曝光方法有效
| 申请号： | 202011313416.0 | 申请日： | 2016-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN112415863B | 公开（公告）日： | 2023-05-23 |
| 发明（设计）人： | 原笃史 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 薛平;周晓飞 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种液晶曝光装置，液晶曝光装置(10)具备配置在投影光学系统(16)下方用以保持基板(P)的基板保持具(24)、沿XY平面使基板保持具移动的第1驱动部、测量基板保持具的位置信息的读头(68S)、支承读头并能在XY平面内移动的读头载台(64)、以及在X轴、Y轴方向移动读头载台的第2驱动部，该第2驱动部，在以第1驱动部使基板保持具往X轴或Y轴方向移动时，使读头载台往X轴或Y轴方向移动。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 平面 显示器 制造 方法 组件 | ||
【主权项】：
暂无信息
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