[发明专利]一种自清洁减反射薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 202011321176.9 | 申请日： | 2020-11-23 |
| 公开（公告）号： | CN112442669B | 公开（公告）日： | 2022-09-23 |
| 发明（设计）人： | 姚函妤;唐群涛;巨佳;王龙龙;刘佳琦;申亚宁;王帅康;吴心怡 | 申请（专利权）人： | 南京工程学院 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/58;C03C17/02;C03C17/09;C23C14/10;C23C14/18 |
| 代理公司： | 南京灿烂知识产权代理有限公司 32356 | 代理人： | 吴亚 |
| 地址： | 211167 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种自清洁减反射薄膜的制备方法，包括以下步骤：步骤一：取清洗干净的玻璃基体，置于磁控溅射装置的腔室内，采用金属靶和二氧化硅靶共溅射；步骤二：将沉积结束的玻璃基体浸入特制去金属溶液中，超声振荡0.5‑1h，进行湿法刻蚀，获得二氧化硅薄膜；步骤三：将去金属后的玻璃基体用流动水清洗干净，再浸入稀盐酸溶液中去除多余的碱液；步骤四：将中和清洗后的玻璃基体取出，并采用流动水冲洗干净，表面吹干，置于退火炉中300‑500℃退火1‑2h，使二氧化硅薄膜结晶，最终在玻璃基体上得到具有孔洞结构的二氧化硅结晶态薄膜。本发明提供的一种自清洁减反射薄膜的制备方法，能够起到自清洁和减反射双重作用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洁 反射 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
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