[发明专利]光照射装置及光照射方法在审
| 申请号： | 202011326173.4 | 申请日： | 2020-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN112987412A | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 石井一正 | 申请（专利权）人： | 优志旺电机株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 任玉敏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光照射装置及光照射方法，其为对工件进行加热而照射光的光照射装置及光照射方法，不需要作为准备阶段的长时间的实验，且能够适当地抑制稼动率的降低、生产节拍时间的长时间化。光照射装置具备：具备：第一工作台，能够将从第一待机位置朝向照射区域的移动作为去路移动而进行往返移动；第二工作台，能够将从第二待机位置朝向照射区域的移动作为去路移动而进行往返移动；控制部，分别控制第一工作台和第二工作台的移动，以使第一工件和第二工件交替通过照射区域；以及加热部，分别设置于第一工作台以及第二工作台，能够对所载置的工件进行加热。在一方的工作台进行往返移动的期间，载置于另一个工作台的工件被加热部加热。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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