[发明专利]原子层沉积设备与制程方法

摘要

本发明是一种原子层沉积设备与制程方法。原子层沉积设备包括腔体、基材载台、中空部件与挡件，其中中空部件具有抽气孔且其底部的一部分对应设置于基材载台的上方。所述挡件对应抽气孔设置，其中挡件具有纵向延伸部与横向延伸部。再者，中空部件上方可连接马达以形成上抽气装置。当上抽气装置做动时，挡件与中空部件之间可形成上抽气路径，以及挡件与基材载台之间可形成下抽气路径。所述上与下抽气路径分别包括第一纵向距离与第二纵向距离，其中第一与第二纵向距离之间的比例可受调整，进而调节腔体内的制程流体的流场，以使原子层沉积制程中的基材可受前驱物均匀的沉积。