[发明专利]一种高质量四结空间太阳电池及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202011331408.9 申请日: 2020-11-24
公开(公告)号: CN112447868B 公开(公告)日: 2022-05-20
发明(设计)人: 黄珊珊;刘建庆;黄辉廉;刘恒昌;刘雪珍;杨文奕 申请(专利权)人: 中山德华芯片技术有限公司
主分类号: H01L31/0304 分类号: H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/0687;H01L31/18
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 冯炳辉
地址: 528437 广东省中山*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种高质量四结空间太阳电池及其制备方法,包括Ge衬底,在Ge衬底上按照层状叠加结构由下至上依次设有Ge子电池、GaInP成核层、GaInAs缓冲层、第一隧穿结、组分渐变缓冲层、DBR反射层、GaInAs子电池、第二隧穿结、AlGaInAs子电池、第三隧穿结、AlGaInP子电池;AlGaInAs子电池和AlGaInP子电池的基区与发射区之间形成耗尽层,基区和发射区为带隙渐变结构,通过在含Al子电池中引入带隙渐变结构,提高了耗尽层的材料质量,降低光生载流子主要产生区域的少子复合速率,提高光生载流子收集效率,同时,渐变的带隙具有辅助背场的作用,使远离耗尽层的光生载流子向耗尽层漂移,远离耗尽层的Al组分使含Al子电池的有效带隙更宽,有利于获得更高开路电压。
搜索关键词: 一种 质量 空间 太阳电池 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山德华芯片技术有限公司,未经中山德华芯片技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011331408.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top