[发明专利]一种等离子体处理装置有效
| 申请号： | 202011334077.4 | 申请日： | 2020-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN112750676B | 公开（公告）日： | 2022-07-08 |
| 发明（设计）人： | 崔都嵋 | 申请（专利权）人： | 乐金显示光电科技（中国）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/50;C23C16/52;C23C16/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 510530 广东省广州市广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种等离子体处理装置。该等离子体处理装置包括：反应腔室，用于进行等离子体反应；上电极和下电极，上电极设置于反应腔室的顶部，下电极设置于反应腔室的底部；第一温度调节部和第二温度调节部，第一温度调节部和第二温度调节部均设置于反应腔室的顶部，且第一温度调节部在上电极所在平面的垂直投影位于上电极内，第二温度调节部在上电极所在平面的垂直投影环绕上电极。本发明实施例可以避免整个等离子体处理装置的反应腔室只能在上电极的边缘区域进行加热冷却的情况，防止反应腔室中间区域与边缘区域温差过大，提高反应腔室的温度均匀性，改善等离子体刻蚀和沉积的反应环境，保证等离子体处理的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
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