[发明专利]大豆间座壳菌提取物用于抗紫外线伤害及减少色素沉着的用途有效

专利信息
申请号: 202011344831.2 申请日: 2020-11-26
公开(公告)号: CN114533769B 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 柯宏慧;张训硕;陈宜芳;杨舜心;林品妤;林秀芳;李政明;谢松源;郑铭仁;吴明德 申请(专利权)人: 高雄医学大学;财团法人食品工业发展研究所
主分类号: A61K31/015 分类号: A61K31/015;A61K8/9728;A61K36/062;A61P17/16;A61P17/00;A61P17/18;A61P35/00;A61Q17/04;A61Q19/02;A61Q19/08;A61Q19/00
代理公司: 广州文冠倪律知识产权代理事务所(普通合伙) 44348 代理人: 杨娅莉;张玉颖
地址: 中国台湾高雄*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种大豆间座壳菌(Diaporthecaulivora)提取物用于制备抗紫外线伤害及减少色素沉着的组合物的用途。本发明也提供一种分离自大豆间座壳菌(Diaporthecaulivora)提取物的新颖化合物,以及包含该化合物的组合物。
搜索关键词: 大豆 间座壳菌 提取物 用于 紫外线 伤害 减少 色素 沉着 用途
【主权项】:
暂无信息
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