[发明专利]一种高粗化电解铜箔的制备方法在审

专利信息
申请号: 202011346418.X 申请日: 2020-11-26
公开(公告)号: CN112501660A 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 肖炳瑞;黄永发;余科淼;徐建平;郭立功;杨帆 申请(专利权)人: 江西省江铜耶兹铜箔有限公司
主分类号: C25D3/38 分类号: C25D3/38;C25D7/06;C25D5/48;C25D5/10;C25D5/16;C25D5/18;C23C22/76
代理公司: 南昌金轩知识产权代理有限公司 36129 代理人: 孙文伟
地址: 330000 江西省南昌市*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 一种适用于高导热绝缘基材的高粗化电解铜箔的制备方法,属于电子材料技术领域。通过调整多段粗化、固化处理电流密度,选用与基材匹配的硅烷类型,调整浓度,制备了粗糙度Rz为8.0‑9.0μm且无铜粉风险的高粗糙度铜箔。涂覆甲基酰氧基硅烷之后,在碳氢材料上剥离强度,与其他类型硅烷比较剥离强度提升了0.1‑0.2,符合覆铜板工艺剥离强度生产要求。本发明通过调整多段粗化、固化的电流密度,调整电镀液的成分,在电解铜箔上涂覆甲基酰氧基硅烷,制备了粗糙度为8.0‑9.0μm且无铜粉风险的高粗糙度铜箔,在碳氢材料上的剥离强度为0.56‑0.6Kg/cm。
搜索关键词: 一种 高粗化 电解 铜箔 制备 方法
【主权项】:
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