[发明专利]一种过渡金属二硒化物薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 202011348704.X 申请日: 2020-11-26
公开(公告)号: CN112501583B 公开(公告)日: 2023-01-24
发明(设计)人: 王新炜;国政 申请(专利权)人: 北京大学深圳研究生院
主分类号: C23C16/30 分类号: C23C16/30;C23C16/455;C23C16/50
代理公司: 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 代理人: 刘芙蓉
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种过渡金属二硒化物薄膜的制备方法。所述制备方法包括:提供衬底;将所述衬底的预定区域暴露在过渡金属前驱体的氛围中,在所述衬底的预定区域形成过渡金属前驱体层;通过等离子体对硒醚类化合物进行解离,得到解离后的硒醚类化合物;将所述过渡金属前驱体层暴露在所述解离后的硒醚类化合物的氛围中,在所述衬底上形成过渡金属二硒化物薄膜。本发明所述制备方法可以获得高纯度、表面平整的过渡金属二硒化物薄膜。
搜索关键词: 一种 过渡 金属 二硒化物 薄膜 制备 方法
【主权项】:
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