[发明专利]一种过渡金属二硒化物薄膜的制备方法有效
申请号: | 202011348704.X | 申请日: | 2020-11-26 |
公开(公告)号: | CN112501583B | 公开(公告)日: | 2023-01-24 |
发明(设计)人: | 王新炜;国政 | 申请(专利权)人: | 北京大学深圳研究生院 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/455;C23C16/50 |
代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268 | 代理人: | 刘芙蓉 |
地址: | 518055 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种过渡金属二硒化物薄膜的制备方法。所述制备方法包括:提供衬底;将所述衬底的预定区域暴露在过渡金属前驱体的氛围中,在所述衬底的预定区域形成过渡金属前驱体层;通过等离子体对硒醚类化合物进行解离,得到解离后的硒醚类化合物;将所述过渡金属前驱体层暴露在所述解离后的硒醚类化合物的氛围中,在所述衬底上形成过渡金属二硒化物薄膜。本发明所述制备方法可以获得高纯度、表面平整的过渡金属二硒化物薄膜。 | ||
搜索关键词: | 一种 过渡 金属 二硒化物 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的