[发明专利]磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法在审
| 申请号： | 202011350141.8 | 申请日： | 2020-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN112458411A | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | 范玉山;黄桃 | 申请（专利权）人： | 苏州德耐纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/35;C23C14/02 |
| 代理公司： | 苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙) 32246 | 代理人： | 季栋林 |
| 地址： | 215000 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜方法，涉及真空镀膜技术领域，为解决现有的真空镀膜设备在对基材进行真空镀膜时速度较慢，容易发生损伤基材的现象，所得的基材成品薄膜附着力较弱，绕射性差的问题。步骤一：先对需要镀膜的基材进行表面处理，将基材表面借助打磨设备打磨后放入清洗池中进行除尘清洗，清洗的过程中在清洗池中滴加一些除油剂对基材表面的油渍进行去除，清洗完后捞出基材，沥干水分后进行烘干操作；步骤二：将烘干后的基材进行底涂加工，借助喷涂机将型号为SZ‑97T的镀膜油喷涂在基材的表面上，尺寸较小的基材可以放入盛有SZ‑97T的镀膜油的浸染池中进行浸涂处理，底涂工作完成后将处理好的基材放在镂空的网架上沥干。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 离子镀 复合 真空镀膜 方法 | ||
【主权项】：
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