[发明专利]一种KrF厚膜光刻胶添加剂及含其的光刻胶组合物在审
申请号: | 202011360612.3 | 申请日: | 2020-11-27 |
公开(公告)号: | CN112485963A | 公开(公告)日: | 2021-03-12 |
发明(设计)人: | 王溯;方书农;耿志月;崔中越;唐晨;薛新斌;王世建;王志勇;张君;霍静静 | 申请(专利权)人: | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;H01L21/027;C07F9/53 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 王卫彬;陈卓 |
地址: | 201616 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: |
本发明公开了一种KrF厚膜光刻胶添加剂及含其的光刻胶组合物。具体地,本发明提供了一种光刻胶组合物,其由下述原料制得,所述原料包括:等离子体光吸收剂、光致生酸剂、光敏聚合物和有机溶剂;其中,所述等离子体光吸收剂为式(I)所示的酰基膦氧化合物。本发明提供的光刻胶组合物中酰基膦氧类光吸收剂和常规光致生酸剂协同配合产生了更好的光透过率,从而使本发明提供的光刻胶组合物在与深紫外光一起使用时,能够形成具有大厚度且可以实现下层的高质量刻蚀的光刻胶图案。 |
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搜索关键词: | 一种 krf 光刻 添加剂 组合 | ||
【主权项】:
暂无信息
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